<legend id="uwhps"><li id="uwhps"></li></legend> 更新時間：2023-07-13
設備型號：
氯含氫分析儀，它采用熱傳導原理，提供了對兩相氣體的高敏感和精確分析H2、He、Ar、CH4、CO2等。廣泛應用在石化、電力、冶金、航天等Z通常是電廠或熱站中氫冷發電機應用。三范圍是用于氫冷發電機組的發電機的氫氣純度。
免費咨詢：010-87396336分機818
氯含氫分析儀的應用
熱處理
•銅熔化爐和鍍鋅
•鋼鐵工業
•化工和石化行業
•合成氣
•肥料
•堿和氯廠
•核電站和電力工業
•氫冷發電機
•天然氣生產行業（純度監測）
•氫氣發生器
半導體裝置的H2氣體濃度測量
氫氣發生裝置的H2氣體濃度測量
燒結爐的H2氣體濃度測量
煤氣發生設備的Ar、He、CH4濃度測量
超導裝置的He氣體濃度測量
空氣分離設備的Ar氣體濃度測量
氯含氫分析儀技術參數：
量程：0-1%、0-2%、0-5%、0-10%、0-15%、0-20%、0-30%、0-40%、0-75% ；0-100%、80-100%、95-100%、98-100%H2\He\CH4\HC等
| 標準規格 | 測量方式 | 熱傳導式 |
| 測量組分 | He、Ar、H2、CH4、CO2 | |
| 測量范圍 | H2：0～3……100％，100～90，100～80％ He：0～5……100％，100～90，100～80％ Ar：0～10……100％，100～90，100～80％ CH4：0～20……100％，100～80％ | |
| 輸出信號 | DC4～20mA、DC0～1V、DC0～10mV 非隔離輸出（其中某一點，根據型號） | |
| 容許負載電阻 | 不超過550Ω（DC4～20mA輸出時） | |
| 輸出電阻 | 100kΩ（DC0～1V、DC0～10mV時） | |
| 顯示器 | 帶背光LCD | |
| 測量值顯示 | zui多4位或小數點后帶2位 | |
| 輸出信號保持 | 手動校正、自動校正時保持校正前的輸出值 | |
| 電源電壓、功耗 | AC100～240V 50/60Hz、約50VA | |
| 環境溫度、濕度 | －5～45℃、不超過90%RH（應無結露） | |
| 安裝方法 | 面板嵌入型 | |
| 外形尺寸（H×W×D） | 240×192×213mm | |
| 重量 | 約5kg | |
| 外殼類型 | 鋼板制外殼、室內型 | |
| 氣體出入口、換氣口 | Rc1/4或NPT1/4（根據） | |
| 換氣氣體的流量 | 約1L/min（根據需要進行） | |
| 適用標準 | CE標記（預定取得認證） | |
| 性能 | 重復性 | ±1%FS |
| 漂移 | 零點：±2% FS/周 以內（H2分析儀） 滿量程點：±2% FS/周 以內（H2分析儀） | |
| 響應速度（90%響應） | 標準：60秒以內（0.4L/min流量） 高速：10秒以內（1L/min流量） 但僅限H2分析儀（參比氣為N2） | |
| 標準測量氣體條件 | 溫度 | 0～50℃ |
| 氣體流量 | 0.4±0.05 L/min 且應穩定 | |
| 塵埃 | 不超過1µm的微粒， 不超過100µg/Nm3 | |
| 壓力 | 不超過10kPa | |
| 氣霧、腐蝕性氣體 | 無 | |
| 水分 | 不超過2℃飽和 |
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